Основы технологии кремниевых ИС: Окисление, диффузия, эпитаксия
Бургер Р., Донован Р. (ред.)
Книга посвящена процессам окисления, диффузии и эпитаксии кремния. По существу изложенный материал охватывает основные процессы планарной технологии - наиболее универсальной современной технологии, позволяющей производить любые полупроводниковые приборы от простейшего диода до сложнейших интегральных субсистем. Использованы малоизвестные или не публиковавшиеся ранее данные и сведения из отчетов фирм и докладов на конференциях. Приведено большое количество графиков и поясняющих схем.
Категорії:
Рік:
1969
Видавництво:
Мир
Мова:
russian
Сторінки:
227
Файл:
DJVU, 4.96 MB
IPFS:
,
russian, 1969